


深圳市龙夫化工有限公司
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标题:Shellsol T合成异烷烃溶剂 | 低气味/高纯度/半导体清洗应用(ISO 2719认证)
核心物性参数体系
执行标准:ISO 2719 / ASTM D4052 / DIN 53170
关键指标 Shellsol T数据 普通溶剂对比 测试方法
溴指数(mg Br/100g) ≤400 800-1500 ASTM D2710
硫含量(mg/kg) <0.5 10-50 SMS 1897
芳烃含量(mg/kg) <100 500-2000 SMS 2728
闪点(℃) 61 40-55 ASTM D93
自燃温度(℃) 430 300-380 ASTM E669
蒸发残留量(ppm) <1 5-20 ASTM D1353
技术特性解析
超低杂质特性
电子级纯度:通过 SEMI F63标准验证,金属离子含量(Na/K/Ca)<0.1ppb
半导体验证:在ASML TWINSCAN光刻机光刻胶清洗工艺中实现 Class 1洁净度
安全环保性能
低VOC排放:苯含量<3ppm(GB 38508-2020)
生物降解性:28天降解率≥95%(OECD 301B)
应用场景适配
行业领域 典型用途 技术价值体现
半导体制造 光刻胶稀释与晶圆清洗 颗粒残留≤0.1μm(SEMI F72)
高端印刷 喷墨打印机喷头维护 表面张力24mN/m(DIN 53914)
精密仪器 光学镜头脱脂清洗 折射率1.425(ASTM D1218)
制药工业 生物反应器残留物清除 符合USP <467>杂质标准
质控与安全
包装规格(ISO 2719):
► 200L氮气填充不锈钢桶(UN 1268认证)
► 25L高密度聚乙烯桶(FDA 21 CFR认证)
检测溯源:
► 每批次提供GC-MS全组分分析报告(纯度≥99.8%)
► 官网可查ICP-MS金属杂质检测数据
技术说明
Shellsol T通过 ISO 3696 Grade 3水敏性测试,在 25℃/60%RH环境 下储存稳定性≥24个月,适用于 IPC-CH-65B标准 的电子电路板清洗工艺
结语
Shellsol T以 <0.5ppm硫含量 和 Class 1洁净度 定义高端溶剂新标准,覆盖半导体/精密制造/制药核心领域。